بررسی پایداری سوسپانسیون نانوذرات کاربید سیلیسیم و پوشش دهی آن بر رویکامپوزیت کربن کربن به روش رسوب دهی الکتروفورتیک

اعمال پوشش های مقاوم به اکسیداسیون راه حل مناسبی برای حفاظت مواد کربنی در دماهای بالاست. پوشش کاربید سیلیسیم SiC بهعنوان یکی از بهترین پوشش ها برای حفاظت از این مواد است. یکی از روش های پوشش دهی نانوذرات، روش رسوب دهی الکتروفورتیک EPD است. در این فرآیند، ذرات باردارشده که در محیط مایع پراکنده شده اند در حضور میدان الکتریکی بر روی یک زیرلایه ی رسانا با بار مخالف جذب می شوند هدف از این پژوهش بررسی پایداری سوسپانسیون حاصل از نانوذرات کاربید سیلیسیم در حلال های الکلی و پوشش دهی آن برروی کامپوزیت کربن کربن به روش رسوب دهی الکتروفورتیک می باشد. بدین منظور سوسپانسیون های مختلف در حلال های اتانول، متانول و ایزوپروپانول، بدون پراکنده ساز و همچنین در حضور پراکنده ساز پلیمری پلی اتیلن ایمین PEI تهیه شدند. پایداری سوسپانسیون های حاصل توسط تصاویر تهیه شده پس از گذشت ۲۲ ساعت و اندازه گیری مقادیر پتانسیل زتا و توزیعاندازه ذرات سوسپانسیون مورد بررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد که سوسپانسیون حاصل از نانوذرات کاربید سیلیسیم در اتانول، در PH=۱۰ و در حضور ۶ درصد وزنی PEI پایداری بهتری دارد. در ادامه پوشش مورد نظر در ولتاژهای ۲۰،۳۰،۴۰،۵۰ ولت و زمان ۲ دقیقه از سوسپانسیون بهینه بر روی زیر لایه اعمال شد. کیفیت و ضخامت پوشش اعمال شده به وسیله میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM مورد بررسی قرار گرفت. پوشش اعمال شده توسط این سوسپانسیون در ولتاژ ۳۰ ولت کیفیت بهتری داشته و دارای سطح یکنواخت و بدون حفره میباشد. همچنین مشاهده شد که با افزایش ولتاژ تا ۴۰ ولت ضخامت پوششافزایش و در ولتاژهای بالاتر مقدار آن کاهش می یابد