تاثیر اتمسفر فرآیند پخت روی خواص الکتریکی و نوری لایه نازک نانو ساختار اکسید روی دارای آلایش آلومینیوم و تیتانیم
سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 212
فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_IJSSE-12-30_003
تاریخ نمایه سازی: 21 دی 1400
چکیده مقاله:
در این تحقیق لایه نازک نانو ساختار اکسید روی دارای آلایش آلومینیوم و تیتانیم (ATZO) به روش سل ژل تهیه گردید. آنالیز فازی توسط تکنیک پراش پرتو ایکس (XRD)، مشاهدات ریز ساختاری و آنالیز عنصری توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FE-SEM) و ابزار طیف سنج تفکیک انرژی (EDX) انجام شده و زبری سطح با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) مورد بررسی قرار گرفت. نتایج XRD نشان داد که حضور اتمسفر احیایی باعث بهبود بلورینگی لایه نازک ATZO می گردد. همچنین مشخص شد که استفاده از اتمسفر احیایی موجب افزایش متوسط عبور نور از % ۳۹/۸۶ به % ۴۱/۸۸ و کاهش چشمگیر میزان مقاومت ویژه الکتریکی ازΩcm ۱۰۶ × ۱۳ تا Ωcm ۱۰۶ × ۰۰۶/۰ گردیده است. اندازه دانه لایه های نازک مختلف در محدوده nm ۲۳ الی nm ۲۹ بوده و میزان زبری سطح آنها در حدود nm ۸ اندازه گیری شد. با توجه به میزان شفافیت و مقدار مقاومت ویژه، ATZO دارای قابلیت کاربرد در ترانزیستور های لایه نازک است.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
اکبر اسحاقی
دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، دانشگاه صنعتی مالک اشتر
اکبر داودی
دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، دانشگاه سمنان
محمد تجلی
دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، دانشگاه سمنان
امید میرزایی
دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، دانشگاه سمنان
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :